首頁 Biz.IT 業界動向 3nm 良率逆轉!三星良率領先台積電

3nm 良率逆轉!三星良率領先台積電

Samsung 搶先 TSMC 開始量產 3nm 製程晶片

據韓國國民日報引述投資及證券公司 Hi Investment & Securities 的報告指出,三星電子在 3nm 工藝的良率已經超越了台積電,有望搶回自 7nm 以來因精細工藝競爭力不及台積電而流失的客戶。

報告指出現時三星電子在 3nm 工藝上的良率為 60%,而台積電用來替 Apple 生產 A17 和 M3 晶片組的 3nm N3 製程,良率仍然只在 55%。另一方面,三星電子在 4nm 工藝的生產良率已提升至超過 75%,開始趕上台積電的 80% 良率,加上台積電製造成本持續上升,和 AI、自動駕駛等對半導體的需求日增,訂單集中在台積電身上形成供應鏈風險,令到主要客戶如 NVIDIA 都紛紛尋求台積電以外的代廠,令三星電子有機會爭取更多訂單。

另外,三星電子由 3nm 開始就引入 GAA 環柵晶體管晶片工藝,而台積電和 Intel 就計劃到 2nm 時才引入,也令三星電子在經驗上有較大優勢。

報道指由於良率較低,現時台積電對 Apple 並非採用每晶圓為單位的收費,而是僅收取「已知良好晶片」的費用。台積電預計要到良率達到 70% 才會轉為每晶圓為單位收費,目標是每季提升良率 5%,因此預計要到明年上半年才有望達到目標。

由於台積電要維持利潤目標,不同地區廠房的價格都會加價,3nm 製程的價格較 5nm 上漲了 25%,所以預計今年除了 Apple 外,主要客戶很可能會採用 4nm 製程生產。

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